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解决方案

研磨抛光液残留清洗剂方案

  • 研磨抛光液残留清洗剂方案
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案例详情
一、方案主题

化学机械抛光液(CMP)是近年来处于前端的研磨抛光方式,大致有二氧化硅抛光液,氧化铈抛光液,氧化铝抛光液等等常见材料。当金属材料抛光至镜面效果时,抛光液在物理和化学同时作用下,在基材上面形成顽固的固体残留物。尤其是使用纳米二氧化硅(硅溶胶)抛光过的铝合金高光镜面,在抛光液干涸在基材表面,已经是业界头等清洗难题。亚美游金属清洗剂,用水性分散原理,解决行业抛光液残留的棘手问题。


二、设计原则

通过自动化超声波设备,加上亚美游抛光液残留水性清洗剂,在不腐蚀材料的基础上,最高效率的批量化清洗镜面材料上的残留抛光液


三、现场分析

很多研磨抛光加工单位,使用一下不佳的清洗剂,要不是清洗不了抛光液残留物,就是能清洗干净,但金属(铝合金)高光镜面效果被破坏,在没有更合适的办法下,停留在手工清洗高光镜面加工件,效率低下,对员工身体,环境都不利,无法实现现代化生产要求。


四、建议使用亚美游金属清洗剂JY-1257,JY-6004有以下优点;
1,环保安全,点火不燃
2,适合规模化生产,超声波设备批量清洗,提高生产效率
3,降低人工成本,清洗剂成本

4,清洗速度快,高光镜面效果保护性好


五 、推荐使用   亚美游金属清洗剂  抛光液残留清洗剂1257 6004


六、细则

1257清洗剂 

5%溶液超声波清洗

时间:3~5min

温度:50~60℃

漂洗

时间:3~5min

温度:50~60℃

6004超声波清洗

 

时间:3~5min

漂洗

漂洗

烘干

 

包装入库


定制案例

分类解决方案 时间2017-11-22 14:15:53 在线咨询

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